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Idea-1h快速蒸鋁

發布時間:2020-12-17

實驗名稱:快速蒸鋁

實驗目的:1h內實現一次快速蒸鋁

實驗設備:GSL-1700X-SPC-2

工藝參數:5min加熱至1100℃,550℃等待追溫且恒溫2分鐘,玻璃罩出現銀色金屬膜時打開擋板蒸鍍1分鐘,蒸鍍結束關閉擋板,停止程序,蒸鍍前真空度為6.1*10-5Pa。

實驗照片:


11.jpg   6.jpg   2.jpg

1-1蒸鍍中                  圖1-2蒸鍍后                   圖1-3蒸鍍后

5.jpg  3.jpg  4.jpg

      圖2-1蒸鍍前真空度                           圖2-2蒸鍍前                                圖2-3蒸鍍后

實驗結果:

1、成功在玻璃基底上蒸鍍鋁膜;

2、鋁膜極易氧化,蒸鍍結束需要立刻停止程序,且降溫全程保持分子泵運行;

3、取樣時,用惰性氣體代替空氣向真空腔體內補壓;

4、鍍膜后的樣品需要及時隔氧保護,以免發生氧化。

特別聲明:

1. 以上所有實驗僅為初步探究,僅供參考。由于我們水平有限,錯誤疏漏之處歡迎指出,我們非常期待您的建議。

2. 歡迎您提出其他實驗思路,我們來驗證。

3. 以上實驗案例及數據只針對科晶設備,不具有普遍性。

4. 因為涉及保密問題,以上數據僅為部分數據,歡迎老師與我們聯系,我們非常期待和您共同探討設備的應用技術。



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