Idea-電池元件鍍鉬薄膜
發布時間：2021-03-10
結果分析：從XRD圖中可以看到，退火后Mo薄膜在40.6°、73.5°、87.3°分別出現了體心立方金屬Mo(110)、(211)、(220)晶面衍射峰，說明鉬呈現多晶相結構，且（110）衍射峰強度遠遠大于其他方向，說明Mo薄膜純度較高，且出現明顯的擇優取生長。
第二組
實驗思路：已成功在硅基底濺射鉬薄膜，將基底更換為304電池殼（打磨拋光除去電池殼鍍層，并依次使用酒精，去離子水超聲清洗，70攝氏度真空烘干24h）
結果分析：從XRD圖中可以看到，不銹鋼表面出現Mo薄膜，且在40.5°、73.5°分別出現了體心立方金屬Mo(110)、(211)晶面衍射峰，說明鉬呈現多晶相結構。
第三組：
實驗思路：已成功在電池殼鍍膜并檢測到有鉬薄膜形成，同樣條件在二級內部鍍膜（鍍膜前已使用酒精清洗，并使用無塵布擦拭干凈后用熱風槍風干）
鍍膜前 鍍膜后（10min） 鍍膜后（20min）
結果分析：鍍膜時間增加，鉬薄膜顏色略微加深，使用萬用表檢測，導通性良好。
第四組：膜性能測試
結果分析：使用3M膠帶粘黏劃破后的薄膜，發現破口附近無薄膜脫落，說明膜結合力良好。無水乙醇擦拭前后，鉬薄膜無變化，說明膜表面致密性優良，附著力較強。
2、導電性測試：
實驗思路：使用萬用表對鉬薄膜電阻值進行測試
結果分析：使用萬用表檢測兩個元件內部鍍鉬部分電阻均為0。
結果分析2：打開二極測量裝置，發現內部鍍膜部分顏色加深，使用抹布擦拭，薄膜無明顯脫落痕跡，說明鍍膜在電解液作用下防腐效果優良。
參考文獻：
[1] https://www.doc88.com/p-7843590246566.html《磁控濺射法制備鉬薄膜的研究現狀》
[2] https://pdf.hanspub.org/MS20180600000_37174912.pdf《兩種鉬靶材濺射鉬薄膜的組織性能研究》
[3] http://www.xjishu.com/zhuanli/24/201910724611_3.html《鉬圓PVD磁控濺射鍍膜方法與流程》
特別聲明：
1. 以上所有實驗僅為初步探究，僅供參考。由于我們水平有限，錯誤疏漏之處歡迎指出，我們非常期待您的建議。
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