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Al2O3+GaN薄膜
關(guān)鍵字:
國外進(jìn)口
產(chǎn)品概述:
MOCVD方法制作AL2O3為襯底的GaN外延薄膜。國外進(jìn)口材料,品質(zhì)優(yōu)質(zhì),歡迎選購
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
產(chǎn)品名稱

AL2O3+GaN?薄膜(進(jìn)口料)

產(chǎn)品簡介

MOCVD方法制作AL2O3為襯底的GaN外延薄膜。國外進(jìn)口材料,品質(zhì)優(yōu)質(zhì),歡迎選購。

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)品名稱:

GaN 厚度4.5um

GaN 厚度2um ,3um

摻雜類型:

N /Si

P/Mg

常規(guī)尺寸:

dia2" +/-0.25mm

dia2" +/-0.25mm

電阻:

2.5E-3ohm-cm

2.0-5.0

載流子濃度:

1E19/cc

/


產(chǎn)品規(guī)格

常規(guī)規(guī)格:dia2″

標(biāo)準(zhǔn)包裝

1000級超凈室100級超凈袋或單片盒包裝

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