| 爐體結(jié)構(gòu) | 獨(dú)特的原料推進(jìn)系統(tǒng)可在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下同時(shí)/依次推進(jìn)3種原料進(jìn)入到管式爐中（并可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)其溫度），溫度可控型原位蒸發(fā)槍，最高溫度可達(dá)1350℃，適合用HPCVD法生長(zhǎng)多層膜
·爐體為三溫區(qū)開(kāi)啟式管式爐，由三個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制每個(gè)溫區(qū)，其控溫精度可達(dá)±0.1℃
·雙層殼體結(jié)構(gòu)，并帶有風(fēng)冷系統(tǒng)
·采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，表面涂有高溫氧化鋁涂層，可提高加熱效率，和延長(zhǎng)使用壽命
·爐體開(kāi)啟式設(shè)計(jì)，便于跟換爐管，并且?guī)в虚_(kāi)啟斷電功能，保證操作安全
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| 電源要求 | ·單相208~240VAC
·最大功率9KW（需60A的空氣開(kāi)關(guān)） |
| 加熱區(qū) | ·三個(gè)加熱區(qū)，每個(gè)加熱區(qū)長(zhǎng)度：300mm
·總加熱區(qū)長(zhǎng)度：900mm |
| 恒溫區(qū) | 恒溫區(qū)長(zhǎng)度：625mm(±2℃）
（三個(gè)溫區(qū)設(shè)置同樣的加熱溫度） |
| 工作溫度 | ·最高工作溫度：1200℃（<1hr）
·連續(xù)工作溫度：100~1100℃ |
| 升溫速率 | ≤ 10°C /min |
| 原料推進(jìn)系統(tǒng)&蒸發(fā)槍 | 獨(dú)特的原料推進(jìn)系統(tǒng)可在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下同時(shí)/依次推進(jìn)3種原料進(jìn)入到管式爐中（并可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)其溫度），利用推送系統(tǒng)可將3個(gè)不同蒸發(fā)源同時(shí)/依次送入3個(gè)獨(dú)立的小石英管中，精確地找到所需溫度，保證實(shí)驗(yàn)精確性和重復(fù)性
·蒸發(fā)槍：采用鎢線圈加熱，氧化鋁坩堝裝料，其最高溫度可達(dá)1350℃，控溫精度±1℃
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| 坩堝移動(dòng)控制 | ·坩堝的移動(dòng)速度和移動(dòng)距離通過(guò)步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，可設(shè)定控制
·最大移動(dòng)距離: 530mm （精度1mm） |
| 沉積樣品臺(tái) | ·特殊設(shè)計(jì)樣品臺(tái)，帶有手動(dòng)遮擋板，放置原料交替試導(dǎo)致所制備樣品污染
·可手動(dòng)調(diào)節(jié)樣品臺(tái)在爐管中的位置
·可選擇水平樣品臺(tái)，或傾斜式樣品臺(tái)
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| 溫度控制系統(tǒng) | ·三個(gè)溫區(qū)由三個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，采用PID方式調(diào)節(jié)溫度，可設(shè)置50段升降溫程序
·歐陸儀表控制，控溫精度可達(dá)±0.1℃
·帶有超溫和斷偶報(bào)警
·三個(gè)K型熱偶（每個(gè)溫區(qū)1個(gè)）
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| 管式爐配置 | ·爐管，采用高純石英管，尺寸為Φ130（外）mm×Φ122（內(nèi)）mm×1200mm（長(zhǎng)）
·配有2個(gè)氧化鋁管堵，防止熱輻射（加熱前管堵必須放入到爐管內(nèi)）
·可選購(gòu)石英管堵，保證反應(yīng)環(huán)境潔凈
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| 真空計(jì) | ·防腐型復(fù)合真空計(jì)（皮拉尼和隔膜規(guī)）
·測(cè)量范圍：3.8E-5 ~ 1125 torr |
| 真空泵&真空度 | ·真空度：10E-2 torr（采用機(jī)械泵），10-E5 torr(采用分子泵)
可在本公司選用各種真空泵 |
| 氣體流量控制系統(tǒng) | 配有4通道氣體流量控制系統(tǒng)，采用觸摸屏設(shè)定參數(shù)
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| 循環(huán)水冷機(jī) | 設(shè)備采用水冷不銹鋼密封法蘭，所以配有循環(huán)水冷機(jī)
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| 設(shè)備尺寸 | 4000×600×1500m
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| 國(guó)家專利 | 專利名稱：一種多樣品多通道自動(dòng)切換進(jìn)樣系統(tǒng)
專利號(hào)：ZL 2016 1 0396131.5
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