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技術參數產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
| 產品名稱
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康寧7980上鍍Si3N4（Silicon?Nitride?Film?(LPCVD)?on?Corning?7980）
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| 產品簡介
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The Si3N4 film may have stressed induced micro-cracking resulted from the large difference of thermal expansion coefficient between Si3N4 and SiO2 fused silica
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| 技術參數
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Si3N4薄膜： | 鍍膜方法： | low stress LPCVD method低壓力化學氣相沉積法 | 膜層厚度： | 1.3um +/- 5% | 鍍膜情況： | 雙面鍍膜 | UV級石英 UV Grade Fused Silica (Corning 0F 7980 HPFS)： | 常規尺寸: | dia100.0 (±0.20) mm x 0.5 (± 0.10) mm | 邊緣： | CNC Ground | 表面質量： | 60/40 | 失效區域： | 2.0 mm border | TTV: | < 20 microns | 拋光情況： | 雙面拋光(60/40) |
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| 產品規格
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dia100x0.5mm；10x5x0.5mm；10x10x0.5mm
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| 標準包裝
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1000級超凈室100級超凈袋或單片盒包裝
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