| 設(shè)備名稱 | 1200℃等離子增強(qiáng)HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)—OTF-1200X-II-PEC4 （2019.12.23—科晶實(shí)驗(yàn)室審核） |
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| 產(chǎn)品提示 | 1、多種配件可選提示 2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備 3、科晶實(shí)驗(yàn)室邀請(qǐng)?zhí)崾?/span> 4、配件妥善保管提示 |
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| 產(chǎn)品特點(diǎn) | ? 爐體可在0 ~ 25°內(nèi)傾斜有利于粉末樣品的裝入和取出 ? 射頻電源可實(shí)現(xiàn)等離子增強(qiáng)從而顯著降低實(shí)驗(yàn)溫度 ? 齒輪驅(qū)動(dòng)管式爐旋轉(zhuǎn)可有效地提高復(fù)合粉末熱處理的均勻性 ? 4通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可以對(duì)氣體的輸送進(jìn)行精確的調(diào)控 ? 集成在前端的帶鎢絲加熱的坩堝舟可以對(duì)前驅(qū)體進(jìn)行蒸發(fā)用于后續(xù)的混合物理化學(xué)氣相沉積階段。 |
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| 相關(guān)視頻 |
操作視頻 回轉(zhuǎn)爐+送料器操作視頻 |
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| 加熱爐參數(shù) | ? 最高溫度：1200oC（<30min），連續(xù)工作溫度：1100℃； ? 兩個(gè)PID溫度控制器及50段可編程溫控系統(tǒng)； ? 輸入功率：208-240V，單相，最大功率：2.5KW； ? 高純氧化鋁纖維保溫層可以最大限度降低能耗； ? 回轉(zhuǎn)爐旋轉(zhuǎn)速度：2-10rpm； ? 爐體開啟式設(shè)計(jì)，以達(dá)到對(duì)樣品快速降溫，方便更換爐管。
更多參數(shù)請(qǐng)聯(lián)系科晶銷售部 |
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| 蒸發(fā)舟參數(shù) | ? 0.7mL氧化鋁坩堝（由鎢絲加熱圈包圍）； ? S型熱電偶插入坩堝中實(shí)現(xiàn)對(duì)蒸發(fā)物料的精確測(cè)溫； ? 最高溫度可達(dá)1300℃（＜1h），長期使用溫度：1200℃（當(dāng)管內(nèi)溫度達(dá)800℃時(shí)，蒸發(fā)舟溫度可達(dá)1500℃）。
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| 射頻電源 | ? 科晶公司現(xiàn)有不同功率的射頻電源可供選擇，以滿足不同實(shí)驗(yàn)條件的需求。
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| 真空系統(tǒng) | ? 采用TRP-12的雙旋真空泵； ? KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵； ? 真空度可達(dá)10-2Torr。
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| 供氣系統(tǒng) | ? 四通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制（精確度：±0.02%）； ? 流量范圍:
? 電壓：208-240V， AC， 50/60Hz； ? 氣體進(jìn)出口配件：6mm OD的聚四氟管或不銹鋼管； ? 不銹鋼針閥用于手動(dòng)控制氣體進(jìn)出； ? PLC觸摸屏可以簡(jiǎn)便地進(jìn)行氣體流量設(shè)置。
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| 產(chǎn)品尺寸和重量 | ? 爐體尺寸：2800mm L ′ 800mm W ′1700mm H； ? 混氣系統(tǒng)尺寸：600mmL′850mm W′700mm ? 凈重：180kg
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| 認(rèn)證 | ? 如您另外付費(fèi)，我們可以保證單臺(tái)儀器的TUV(UL61010)或CSA 認(rèn)證
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| 承諾 | ? 一年質(zhì)保期，終身維護(hù)（不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件） ? 因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 |
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| 國家專利 | 專利名稱：一種等離子增強(qiáng)旋轉(zhuǎn)爐裝置 專利號(hào)：ZL 2019 2 1533393.7 尊重原創(chuàng)、鄙視抄襲、侵權(quán)必究。 |
科晶應(yīng)用技術(shù)實(shí)驗(yàn)室利用PECVD在不同功率（75W、150W、300W）條件下沉積Sb2Se3薄膜，實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下：
組別 | SEM結(jié)果 | 元素百分比 | ||
Sb (%) | Se(%) | |||
未經(jīng)任何處理的樣品 |
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| 40.01 | 59.99 |
等離子體處理 |
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| 41.04 | 58.96 |
等離子體處理 min |
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| 41.64 | 58.36 |
等離子體處理5 min |
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| 41.86 | 58.14 |
小結(jié):
（1）等離子體能改變Sb2Se3薄膜的形貌，同時(shí)改變Sb2Se3的組成；
（2）隨著射頻電源功率的增加，Sb2Se3中的Se百分含量降低。
組別 | SEM結(jié)果 | 元素百分比 | ||
Sb (%) | Se(%) | |||
10W、條件下沉積Sb2Se3 |
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| 40.01 | 59.99 |
75W、條件下沉積Sb2Se3 |
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| 70.28 | 29.72 |
75W、3Pa且補(bǔ)充0.1g Se粉沉積Sb2Se3 |
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| 43.13 | 56.87 |
75W、且補(bǔ)充2粉末（10%質(zhì)量比Sb2Se3）沉積Sb2Se3 |
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| Sn: 22.78 Sb: 25.77 | 51.44 |
小結(jié):
（1）低功率等離子體條件下可得到近原子比的Sb2Se3；
（2）高壓條件下可得到富Sb的Sb2Se3薄膜；
（3）添加Se會(huì)破壞PECVD沉積的Sb2Se3的原子比；
（4）當(dāng)SnSe2質(zhì)量比為10%時(shí)，可以得到Sb：Sn摩爾比接近于的薄膜，該方法適用于摻雜。
XRD結(jié)果
警示 | ? 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02 MPa； ? 由于氣瓶?jī)?nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時(shí)，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa，使用時(shí)會(huì)更加精確安全； ? 石英管的長時(shí)間使用溫度＜1100℃； ? 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí)，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng)，保持在常壓狀態(tài)； ? 射頻電源工作時(shí)，請(qǐng)勿觸碰。 |
應(yīng)用技術(shù)提示 | ? 通入爐內(nèi)氣體流量需小于200 sccm，以避免冷的大氣流對(duì)加熱石英管造成沖擊； ? 加熱時(shí)，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱，則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02 MPa，需立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂、法蘭飛出等）； ? 射頻電源在低氣壓、低功率條件下起輝。 |
防腐型真空表 （可選） | ? 輸入電源24V，1A DC（配有電壓轉(zhuǎn)換器）； ? 測(cè)量范圍3.8′10-5-1125 Torr； ? 數(shù)據(jù)顯示：數(shù)顯（屏幕尺寸為20′14mm），其單位為torr ? 連接：1/8"NPT 接頭 ? 產(chǎn)品尺寸 46mm×28mm×126mm ( L′W′ H)
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爐管 | ? 高純異形石英管尺寸：兩端：25 mm OD′22 mm ID；中間：50mm O.D′44mm I.D′190mm L
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密封法蘭 | ? 一對(duì)不銹鋼快接法蘭（法蘭上安裝有KF25真空接頭）； ? 磁流體密封旋轉(zhuǎn)接頭安裝在兩端，以保證旋轉(zhuǎn)過程中進(jìn)氣管和其它附件的正常使用，避免卷繞。
配件法蘭1 配件法蘭2 配件法蘭3 配件法蘭4 | ||||||||||
進(jìn)料/收料器 | ? EQ-PF-1S是一款容積式自動(dòng)進(jìn)料器，包含電動(dòng)攪拌器及帶有振動(dòng)裝置的不銹鋼料斗，可實(shí)現(xiàn)固體粉料的自動(dòng)化進(jìn)料，從而實(shí)現(xiàn)固態(tài)粉料的連續(xù)式燒結(jié)/熱處理； ? 2L不銹鋼收集桶安裝在右側(cè)，可實(shí)現(xiàn)真空氣氛保護(hù)環(huán)境下的粉料樣品收集（標(biāo)配中包含）   進(jìn)料器 收料器 | ||||||||||
溫儀表 （可選） | ? 單回路、雙回路和三回路控制模式； ? 每個(gè)回路可實(shí)現(xiàn)雙輸入，雙保護(hù)； ? 各回路可PID、串級(jí)、比率等回路控制； ? 數(shù)碼顯示，配備7個(gè)按鍵，可用于進(jìn)行各控制回路的切換和參數(shù)修改； ? 最多可存儲(chǔ)50個(gè)程序，每個(gè)程序最多可有3個(gè)不同的設(shè)定值（即3條不同的曲線），最多可設(shè)置500段升降溫程序； ? 通訊方式多樣，Modbus/Profibus DP/DeviceNet/EI-Bisync/RS485通訊接口，可連接PC進(jìn)行遠(yuǎn)程控制。
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真空系統(tǒng) （可選） | ? 科晶公司提供一系列低真空、高真空及進(jìn)口高真空設(shè)備，以滿足在不同真空條件下的實(shí)驗(yàn)需求。
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供氣系統(tǒng) （可選） | ? 科晶公司提供各種通道浮子、質(zhì)子流量計(jì)可供選擇，以實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制。
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