| 產品名稱 | ·開啟式納米線生長CVD爐--OTF-1200X-4-NW |
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| 產品提示 | 1、多種配件可選提示 2、特殊設備尺寸設備 3、科晶實驗室邀請提示 4、配件妥善保管提示 |
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| 視頻 | 儀表操作視頻 |
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| 產品特點 | OTF-1200X-100單區管式爐： ·采用ABB電器元件 ·右側可滑動支架的法蘭，方便操作 ·采用雙層殼體結構并帶有風冷系統 ·右側水冷法蘭可滑動，便于樣品裝載 ·加熱器與爐子之間的左側水冷法蘭能夠更好的密封 ·爐膛材料采用高純氧化鋁纖維，能很大程度減少能量損失提高加熱效率和增加爐膛使用壽命 ·左側的預熱系統可對輸入的氣體、液體、固體或混合物進行預加熱，然后通入CVD爐中。 ·預熱裝置的最高工作溫度：600℃ ·左側法蘭作為氣體通道的同時起到密封作用（詳細結構請看下圖） 右側活動法蘭 結構示意圖 |
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| 基本參數 | 加熱爐： ·最高溫度: 1100℃（≤30min） 工作溫度: 1000℃ ·推薦升溫速率:≤10℃/min ·加熱區：440 mm ·熱偶：K型熱偶 加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金 ·電壓：220V, 額定功率：4KW 預熱裝置： ·連續工作溫度: 0~300°C ·最快升溫和降溫速度: 10°C/min ·加熱區：150 mm 更多參數請聯系我們 |
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| 真空和密封法蘭 | CVD爐: ①右法蘭: ·水冷可避免密封圈融化 ·KF25真空快接更加方便(可與真空泵、波紋管、真空閥等連接） ·滑動使操作更簡單：樣品可快速的放入和取出 ·一個石英樣品支架 ( 3英寸 )：與石英擋板滑動法蘭連成一體 ②左法蘭 (在CVD 爐和小加熱器之間):裝有4個 1/4英寸卡套連結的通氣管: ·法蘭上有兩個獨立 1/4英寸接口，可單獨將任何氣體通入CVD爐 ·其中一路通過1/4英寸接口將預熱氣體通入CVD爐 ·另外一路通過1/4英寸口將不加熱的氣體通入CVD爐(在 CVD 爐內, 通過“T”型結構與加熱氣體匯合。) |
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| 爐體結構＆溫控 | ·CVD爐體加熱和前驅體（單獨控溫）： ·具有PID/自整定功能和50段可編程的數字控制器 ·熱電偶：K型熱電偶，通過右側法蘭進料，控制爐溫。 ·控溫精度：+/-1°C |
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| 真空度 | ·機械泵：10^-2 torr ·分子泵：10^-5 torr |
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| 產品尺寸 | ·1200(L)X450(W)X600(H)mm ·重量約：110kg |
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| 認證 | ·此產品已通過CE認證 證書編號： M.2021.206.C67997 ·若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證 |
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| 質保期 | ·一年保修，終身技術支持。 ·特別提示： 1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。 |
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| 產品在線展示 |
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應用技術提示 | ·購買前請聯系我們，確定進出氣口以及閥門種類 ·由于氣瓶內部氣壓較高，所以向爐管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 ·當爐體溫度高于1000℃時，爐管內不可處于真空狀態，爐管內的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態 ·進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊并同時保護爐內溫場。 ·石英管的長時間使用溫度＜1100℃ ·設備使用過程兩邊添加管堵，保證恒溫區和法蘭密封性 ·為了獲得更高的潔凈度和真空度，請選用石英管 |
警示 | ·不要將裝有溶液的容器放在儀器上，防止造成儀器短路 ·如需高溫取樣，請務必穿戴好安全裝置 ·爐管內氣壓不可高于0.02MPa ·對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數，若氣壓表示數大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發生（如爐 管破裂，法蘭飛出等） |
可選相關設備 | 手動擋板閥、水冷機、防腐真空計、真空系統、液體注入系統（MTI）
數顯真空計 手動擋板閥（安裝在真空端部） 多種型號水冷機 可選注液：
帶溫控加熱的注液器 2.4MHz超聲霧化器 可加熱型注射泵 真空泵系統： |
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皖公網安備 34012302000974號
