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雙靶磁控濺射儀
型號:
VTC-600-2HD
產品概述:
VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。
免責聲明: 本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等)僅用于宣傳用途,僅供參考。由于更新不及時和網站不可預知的BUG可能會造成數據與實物的偏差,請勿復制或者截圖。如果您對參數有異議,或者想了解產品詳細信息及更多參數,請與本公司銷售人員聯系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,請勿將此參數用于招標文件或者合同,科晶公司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。 如果您需要下載產品的電子版技術文檔,說明書(在線閱覽),裝箱單,與售后安裝條件等文件,請點擊上方的附件下載模塊中選取。商城產品僅針對大陸地區客戶,購買前請與工作人員溝通,以免給您帶來不便。
技術參數產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
主要參數

輸入電源:220V AC 50/60Hz   功率:<2KW(包含真空泵)

 

濺射電源:安裝有兩個濺射電源:

直流(DC)電源:500W,針對于制作金屬膜

射頻(RF)電源:300W,可制作氧化物和金屬膜

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主要特點

體積小,操作簡便

 

真空腔室、真空泵組整機模塊化設計,控制電源為分體式設計,可根據用戶實際需要調整購買需求。

 

可根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍,購買前請聯系我公司銷售。

磁控濺射頭

儀器中安裝有2個2英寸磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層(圖一)

 

一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材

 

另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導電性靶材

 

靶材尺寸要求:直徑為50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)

 

可以單獨訂購RF連接線作為備用(圖二)

 

設備包含一臺水冷機,用于靶頭冷卻(圖三)

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       圖一

        圖二

           圖三



載樣臺

載樣臺尺寸:φ140mm(最大可放置4"的基底)

 

載樣臺可以旋轉,其速度為:1 - 20 rpm (可調)

 

載樣臺最高可加熱溫度為500℃

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真空腔體

真空腔體:φ300 mm  x 300 mm H,采用不銹鋼制作

 

觀察窗口:φ100 mm

 

腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易

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氣體流量控制器

儀器內部安裝有2個質量流量計,量程為:0-100sccm

 

氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作

 

此系統運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設備中不包含)

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真空系統

配有一套GZK-103D分子泵系統(德國制作)

 

標準5E-5mbar 極限7.4E-6mbar(僅供參考,詳情請點擊)

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薄膜測厚

一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?  

 

LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據

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產品外型尺寸

L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

 

凈重:160 kg

質保

一年保修,終身技術支持。


特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。

 

點擊查看售后服務承諾書。


使用提示

此設備為DIY設備,參數變化較大購買前請務必電話仔細溝通

 

為了得到較好的薄膜質量,必須通入高純氣體(建議> 5N)

 

在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈

 

要達到薄膜與基底良好結合,請在濺射前清潔基材表面

 

超聲波清洗(詳細參數點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。

 

等離子清洗(詳細參數點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。

 

制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用于改善金屬和合金的附著力。

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   超聲波清洗機

    等離子清洗機

   蒸鍍儀

   手套箱


警示

注意:產品內部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體

 

氣瓶上應安裝減壓閥(設備標配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用

 

濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶

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